Model: Quantus® HP100
Quantus® HP100 là thiết bị phân tích khí hiện đại sử dụng công nghệ Quang Phổ Phát Xạ Plasma (SPOES). Máy được thiết kế để phát hiện rò rỉ, xác định điểm kết thúc quy trình và giám sát khí trong sản xuất bán dẫn một cách hiệu quả.
THÔNG SỐ KĨ THUẬT
Dải áp suất hoạt động (Argon)
1 Torr đến 450 Torr
Dải áp suất hoạt động (Nitơ)
1 Torr đến 120 Torr
Khả năng phát hiện tối thiểu
< 1 ppm
Tốc độ lấy mẫu tối đa
20 Hz
Kích thước
162 x 153 x 210 mm
Kết nối
KF25 tiêu chuẩn
Bảo trì
Tế bào plasma có thể thay thế tại chỗ, không cần bơm hoặc vật tư tiêu hao
ƯU ĐIỂM NỔI BẬT
- Dải áp suất hoạt động: Từ 1 Torr đến 450 Torr với khí Argon và từ 1 Torr đến 120 Torr với khí Nitơ, có thể điều chỉnh cho các loại khí khác.
- Độ nhạy cao: Phát hiện khí ở mức nhỏ hơn 1 ppm, đảm bảo độ chính xác tối ưu.
- Thiết kế nhỏ gọn: Kích thước 162 x 153 x 210 mm, dễ dàng lắp đặt với kết nối tiêu chuẩn KF25.
- Bảo trì đơn giản: Không cần bơm hoặc vật tư tiêu hao, tế bào plasma có thể dễ dàng thay thế tại chỗ.
- Tốc độ lấy mẫu nhanh: Đạt tốc độ tối đa 20 lần/giây, giúp theo dõi nhanh chóng và chính xác.
ỨNG DỤNG TIÊU BIỂU
- Phát hiện rò rỉ thời gian thực: Phát hiện nhanh chóng sự xâm nhập của không khí hoặc khí không mong muốn vào buồng quy trình, giúp duy trì chất lượng sản phẩm.
- Xác định điểm kết thúc: Giám sát hiệu quả các quá trình ăn mòn và lắng đọng, đặc biệt trong buồng plasma tối hoặc các khu vực không có ánh sáng.
- Giám sát quy trình: Theo dõi liên tục các thông số khí trong sản xuất, giúp giảm thiểu phế phẩm và nâng cao hiệu suất quy trình.
